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上海壓鑄機廢氣處理設備廠(chǎng)家電話(huà)

簡(jiǎn)要描述:

上海壓鑄機廢氣處理設備廠(chǎng)家電話(huà)活性炭除臭設備是等體積傳統活性炭過(guò)濾設備過(guò)濾面積的2~4倍,阻力只有傳統的1/2~1/3。
環(huán)形活性炭?jì)艋b置由于采用切線(xiàn)出風(fēng),其方向不受場(chǎng)地條件限制可任意擺放,抽風(fēng)機和設備對接極易,排
放管可直接固定于設備上,系統整齊合理。

  • 更新時(shí)間:2024-04-01
  • 產(chǎn)品型號:常州藍陽(yáng)
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)地:常州市
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數:697
詳細介紹
品牌其他品牌加工定制

    上海壓鑄機廢氣處理設備廠(chǎng)家電話(huà)
    稀釋擴散法
    原理:將有臭味地氣體通過(guò)煙囪排至大氣,或用無(wú)臭空氣稀釋?zhuān)档蛺撼粑镔|(zhì)濃度以減少臭味。適用范圍:適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn):費用低、設備簡(jiǎn)單。缺點(diǎn):易受氣象條件限制,惡臭物質(zhì)依然存在。
    水吸收法
    原理:利用臭氣中某些物質(zhì)易溶于水的特性,使臭氣成分直接與水接觸,從而溶解于水達到脫臭目的。適用范圍:水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn):工藝簡(jiǎn)單,管理方便,設備運轉費用低產(chǎn)生二次污染,需對洗滌液進(jìn)行處理。缺點(diǎn):凈化效率低,應與其他技術(shù)聯(lián)合使用,對硫醇,脂肪酸等處理效果差。
    曝氣式脫臭法
    原理:將惡臭物質(zhì)以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中,通過(guò)懸浮生長(cháng)的微生物降解惡臭物質(zhì)適用范圍廣。適用范圍:截至2013年,日本已用于糞便處理場(chǎng)、污水處理廠(chǎng)的臭氣處理。優(yōu)點(diǎn):活性污泥經(jīng)過(guò)馴化后,對不超過(guò)極限負荷量的惡臭成分,去除率可達99.5%以上。缺點(diǎn):受到曝氣強度的限制,該法的應用還有一定局限。
    催化氧化工藝
    原理:反應塔內裝填特制的固態(tài)填料,填料內部復配多介質(zhì)催化劑。當惡臭氣體在引風(fēng)機的作用下穿過(guò)填料層,與通過(guò)特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復配氧化劑在固相填料表面充分接觸,并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下,惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍:適用范圍廣,尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣,對疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點(diǎn):占地小,投資低,運行成本低;管理方便,即開(kāi)即用。缺點(diǎn):耐沖擊負荷,不易污染物濃度及溫度變化影響,需消耗一定量的藥劑。
    低溫等離子體
    低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當外加電壓達到氣體的著(zhù)火電壓時(shí),氣體分子被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過(guò)程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個(gè)體系呈現低溫狀態(tài),所以稱(chēng)為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時(shí)間內發(fā)生分解,并發(fā)生后續的各種反應以達到降解污染物的目的。
    低溫等離子體空氣凈化設備能夠顯著(zhù)治理的污染有:VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵,也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過(guò)程,不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣,不會(huì )導致二次污染。
    吸收設備
    吸收法采用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對VOCs進(jìn)行吸收,再利用VOCs和吸收劑物理性質(zhì)的差異進(jìn)行分離。
    含VOCs的氣體自吸收塔底部進(jìn)入塔內,在上升過(guò)程中與來(lái)自塔頂的吸收劑逆流接觸,凈化后的氣體由塔頂排出。吸收了VOCs的吸收劑通過(guò)熱交換器后,進(jìn)入汽提塔頂部,在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經(jīng)過(guò)溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過(guò)冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開(kāi)汽提塔,被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應的工藝調整。吸附設備
    在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時(shí),流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上,此現象稱(chēng)為吸附。吸附處理廢氣時(shí),吸附的對象是氣態(tài)污染物,氣固吸附。被吸附的氣體組分稱(chēng)為吸附質(zhì),多孔固體物質(zhì)稱(chēng)為吸附劑。
    固體表面吸附了吸附質(zhì)后,一部被吸附的吸附質(zhì)可從吸附劑表面脫離,此現附。而當吸附進(jìn)行一段時(shí)間后,由于表面吸附質(zhì)的濃集,使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求,此時(shí)需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質(zhì)脫附,以協(xié)的吸附能力,這個(gè)過(guò)程稱(chēng)為吸附劑的再生。因此在實(shí)際吸附工程中,正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過(guò)程,達到除去廢氣中污染物質(zhì)并回收廢氣中有用組分。凈化設備
    燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過(guò)量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,大多數生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時(shí),燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進(jìn)一步處理。治理設備
    等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體,其英文名稱(chēng)是plasma,它是由美國科學(xué)muir,于1927年在研究低氣壓下汞蒸氣中放電現象時(shí)命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成,但電子和正離子的電荷數必須體表現出電中性,這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同,因此又有人把它稱(chēng)為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。根據狀態(tài)、溫度和離子密度,等離子體通??梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。其中高溫等離子體的電離度接近1,各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài),它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài),各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度(Te)≥離子溫度(Ti),可達104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。
    截至2013年,對低溫等離子體的作用機理研究認為是粒子非彈性碰撞的結果。低溫等離富含電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子,其中高能電子與氣體分子(原子)發(fā)生撞,將能量轉換成基態(tài)分子(原子)的內能,發(fā)生激發(fā)、離解和電離等一系列過(guò)秸處于活化狀態(tài)。一方面打開(kāi)了氣體分子鍵,生成一些單分子和固體微粒;另一力生.OH、H2O2.等自由基和氧化性*的O3,在這一過(guò)程中高能電子起決定性作用,離子的熱運動(dòng)只有副作用。常壓下,氣體放電產(chǎn)生的高度非平衡等離子體中電子溫層氏度)遠高于氣體溫度(室溫100℃左右)。在非平衡等離子體中可能發(fā)生各種類(lèi)型的化學(xué)反應,主要決定于電子的平均能量、電子密度、氣體溫度、有害氣體分子濃度和≥氣體成分。這為一些需要很大活化能的反應如大氣中難降解污染物的去除提供了另外也可以對低濃度、高流速、大風(fēng)量的含揮發(fā)性有機污染物和含硫類(lèi)污染物等進(jìn)行處理。
    常見(jiàn)的產(chǎn)生等離子體的方法是氣體放電,所謂氣體放電是指通過(guò)某種機制使一電子從氣體原子或分子中電離出來(lái),形成的氣體媒質(zhì)稱(chēng)為電離氣體,如果電離氣由外電場(chǎng)產(chǎn)生并形成傳導電流,這種現象稱(chēng)為氣體放電。根據放電產(chǎn)生的機理、氣體的壓j源性質(zhì)以及電極的幾何形狀、氣體放電等離子體主要分為以下幾種形式:①輝光放電;③介質(zhì)阻擋放電;④射頻放電;⑤微波放電。無(wú)論哪一種形式產(chǎn)生的等離子體,都需要高壓放電。容易打火產(chǎn)生危險。由于對諸如氣態(tài)污染物的治理,一般要求在常壓下進(jìn)行。
    5、光催化和生物凈化設備
    光催化是常溫深度反應技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物*氧化成無(wú)毒無(wú)害的產(chǎn)物,而傳統的高溫焚燒技術(shù)則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規的催化、氧化方法亦需要的高溫。
    從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑。常見(jiàn)的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點(diǎn),具體研究中可根據需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽(yáng)光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是使用和研究的單一化合物光催化劑。
    上海壓鑄機廢氣處理設備廠(chǎng)家電話(huà)
    光化學(xué)煙霧的治理技術(shù),造成光化學(xué)煙霧的一次污染物主要是氮氧化物和碳氫化合物。其主要來(lái)源是以汽車(chē)尾氣,石油冶煉業(yè)等工業(yè)企業(yè)也是氮氧化物重要來(lái)源。汽車(chē)尾氣主要來(lái)自發(fā)動(dòng)機汽油燃燒??刂破?chē)尾氣的技術(shù)措施主要有:①改革汽車(chē)燃料,推廣使用液化石油氣、液化天然氣、甲醇等新型燃料。②改善進(jìn)氣系統,提高混合氣燃燒率,減少一氧化碳、碳氫化合物和氟氧化合物排放;③進(jìn)行排氣處理,進(jìn)一步去除尾氣中的有害物質(zhì)。工業(yè)企業(yè)排放的氮氧化物的去除方法主要有吸收法、非選擇性催化還原法和選擇性催化還原法。吸收法是根據所使用的吸收劑,又可分為堿吸收法,熔融鹽吸收法和硫酸吸收法。非選擇催化還原法是應用金屬鉑等作為催化劑,以H2或CH4等還原性氣體作為還原劑,將煙氣中的氮氧化物還原為N2。所謂非選擇性是指反應時(shí)的溫度條件不僅控制在只是煙氣中的氮氧化物還原為N2,而且在反應過(guò)程中有一定量的還原劑與煙氣中的過(guò)剩氧發(fā)生反應。選擇性催化還原法是以金屬鉑的氧化物作為催化劑,以氨、硫化氫和一氧化碳等為還原劑,選擇脫硝反應溫度,使還原劑僅與煙氣的氮氧化物發(fā)生反應,使之轉變?yōu)闊o(wú)害的N2。
    吸收法即采用適當的吸收劑(如柴油、煤油、水等介質(zhì))在吸收塔內進(jìn)行吸收,吸收到一定濃度后進(jìn)行溶劑與吸收液的分離,溶劑回收,吸收液重新使用或另行處理,采用這種方法的關(guān)鍵是吸收劑的選擇。由于溶劑與吸收劑的分離較為困難,因此其應用受到了一定的限制。
    活性炭吸附法采用多孔活性炭或活性炭纖維吸附有機廢氣,飽和后用低壓蒸汽再生,再生時(shí)排出溶劑廢氣經(jīng)冷凝、水分離后回收溶劑,適用于不連續的處理過(guò)程,特別對低濃度有機廢氣中的溶劑回收有很好的效果。
    冷凝法主要利用冷介質(zhì)對高溫有機廢氣蒸汽進(jìn)行處理,可有效回收溶劑。處理效果的好壞與冷媒的溫度有關(guān),處理效率較其他方法相對較低,適用高濃度廢氣的處理。
    綜合考慮廢氣中所要去除的有害成分,擬采用濕式的方法對此鍋爐廢氣進(jìn)行處理,主要是采用水噴淋除塵脫硫技術(shù)對廢氣進(jìn)行處理,這種方法可以有效去除廢氣中的煙塵和二氧化硫,并且能夠有效降低廢氣中的林格曼黑度。目前較為廣泛使用的除塵脫硫設備是旋流板除塵脫硫設備是旋流板除塵脫硫設備,已在多項實(shí)際工程中得以驗證,經(jīng)檢測,其除塵效率高達98%以上,脫硫效率達85%以上,與它的除塵脫硫設備相比具有技術(shù)成熟可靠、阻力小、處理效率高、排氣通暢、投資省、運行管理方便等特點(diǎn)。由于凈化過(guò)程中有污水排出,為了避免造成二次污染,減少水資源消耗,提高水的利用率,此設備有專(zhuān)門(mén)的污水處理系統,并且利用堿性溶液做為洗滌劑;確保凈化后的各項指標達標排放,故本設計擬選用旋流板除塵脫硫裝置對鍋爐廢氣進(jìn)行凈化。本鍋爐廢氣處理采用濕法旋流板除塵脫硫一體化設備對此廢氣進(jìn)行凈化,使用鍋爐排放出的污水作為洗滌劑。鍋爐排出的廢氣在引風(fēng)機的作用下,輸送到旋流板除塵脫硫一體化裝置,利用水噴淋的作用,通過(guò)旋流板將水流均勻分散以達到大面積的噴淋效果;同時(shí),為了達到更高的去除效率,又可以提高水的利用率。

 


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